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FF14伊甸E10怎么打 普通E10打法機(jī)制圖文攻略

更新時間:2021-05-02 20:45

作者:匿名

FF14伊甸E10怎么打?國服5.4版本已經(jīng)正式開啟了。全新的伊甸希望樂園再生篇也正式上線了,還不是很了解普通難度的E10怎么打的小伙伴們,下面就一起來看看吧。

FF14伊甸E10怎么打 普通E10打法機(jī)制圖文攻略

E10普通難度通關(guān)攻略

普通難度的伊甸就沒有那么固定的時間軸了,對于團(tuán)傷也沒有什么特別的要求,基本上會機(jī)制就可以過了。

簡易文字攻略

Forward/Backward Impolsion:BOSS的前方/后方180°AOE,請根據(jù)讀條判斷躲避。

Forward/Backward Shadow Impolsion:這是BOSS的核心技能。BOSS會亮出自己的影子,影子會面朝場中央。這是BOSS的真正面向,以此躲避BOSS的前方/后方180°AOE。

Deep Shadow Nova:全屏AOE。

Spawn Shadow:召喚3個影子,與BOSS連線的影子是他的真身。

影子會隨機(jī)順時針或者逆時針轉(zhuǎn)換位置若干次。等他跳完之后迅速跑到真身后方躲避其前方180°AOE。

Fade to Shadow:在對角線召喚2個影子,釋放可見大范圍圓形AOE。在另兩個角落可以躲避。

一定階段之后,BOSS會站起身釋放可見鋼鐵范圍攻擊。進(jìn)入P2階段。

Umbra Smash:攻擊MT4次,給其疊加4層易傷。ST可以考慮遠(yuǎn)離人群并挑釁換T(普通難度不是必需,請事先商量是否換T)。

之后BOSS讀條Shadows Edge,對MT釋放直線范圍的死刑攻擊。ST如果挑釁吃這個傷害的話,記得務(wù)必提前遠(yuǎn)離人群。

Left/Right Giga Slash:BOSS的左側(cè)/右側(cè)180°AOE,請根據(jù)讀條判斷躲避。

Left/Right Shadow Slash:BOSS的影子的左側(cè)/右側(cè)180°AOE(影子面向判斷和前相同)。

Void Gate:踩3個塔,兩人一塔。進(jìn)塔會附加流血DEBUFF,請注意。

從此時開始,BOSS的每次Shadow Impolsion/Shadow Slash會先后召喚2-3個不同方向的影子,影子會逐一攻擊。請務(wù)必全部躲避。

Distant Scream:從場地中央向外側(cè)的擊退,開防擊退處理。別被擊退到場地邊緣的即死陷阱里。

之后BOSS會重新蹲下,進(jìn)入P3。

P3會在P1基礎(chǔ)上增加下述技能:

Shadowy Eruption:點(diǎn)全員腳底下的黃圈。第一次讀條固定是出現(xiàn)1個黃圈。之后的讀條會先后點(diǎn)多個,走位躲避。

Fade to Shadow與Forward/Backward Impolsion的組合技:請根據(jù)面向判斷BOSS攻擊的范圍,在安全一側(cè)的角落躲避影子的黃圈。

P2與P3重復(fù),直到擊破。

視頻攻略


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